Beschafft werden soll ein kompaktes, für den Reinraumeinsatz geeignetes Tischsystem zur maskenlo-sen UV-Direktlithographie für Forschung, Entwicklung und Kleinserien-Prototyping. Das System muss sowohl eine rasterbasierte Vollflächenbelichtung als auch einen zusätzlichen vektorbasierten Direkt-belichtungsmodus bereitstellen, um hochauflösende Mikro- und Nanostrukturen, Ausbesserungen bestehender Strukturen sowie konturtreue Linienbelichtungen auf unterschiedlichsten Substraten zu ermöglichen. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2