Das Laboratorium für Anorganische Chemie der ETH Zürich plant die Beschaffung eines integrierten UHV-Clusters für gepulste Laserdeposition (PLD) und Sputterdeposition von Heterostrukturen aus Oxid- und Metallschichten. Das System soll die Materialsynthese auf Oxidsubstraten mit einer Fläche von bis zu 10 x 10 mm2 ermöglichen. Es soll aus einer PLD-Kammer, einer Sputterkammer, einer zentralen UHV-Transferkammer und einer Schleusenkammer für den Austausch von Proben und PLD-Targets bestehen, ohne die Prozesskammern zu belüften. Alle Kammern müssen Basisdrücke unter 1 x 10-7 mbar aufweisen. Die PLD-Kammer muss mit einem KrF-Excimerlaser und in-situ Hochdruck-RHEED ausgestattet sein und für routinemässiges epitaktisches Oxidwachstum bei hohen Temperaturen um 1100 °C geeignet sein. Die Sputterkammer muss DC- und RF-Magnetronsputtern von Metall- und Oxidschichten ermöglichen, einschliesslich reaktivem Sputtern in Ar/O₂-Atmosphären, mit Substratheizung bis mindestens 700 °C unter Verwendung eines Probenträgersystems, das mit der PLD-Kammer kompatibel ist. Das System muss den Probentransfer zu einem externen UHV-Transferkoffer ermöglichen und UHV-kompatible Ports für die zukünftige Erweiterung des Clusters vorsehen. Für weitere Details siehe Spezifikationsdokument.

Le Laboratoire de chimie inorganique de l’ETH Zurich prévoit d’acquérir un cluster UHV intégré pour le dépôt par ablation laser pulsée (PLD) et la pulvérisation cathodique de hétérostructures constituées de couches d’oxydes et de couches métalliques. Le système permettra la synthèse de matériaux sur des substrats oxydes d’une surface allant jusqu’à 10 x 10 mm2. Il devra comprendre une chambre PLD, une chambre de pulvérisation cathodique, une chambre UHV de transfert/manipulation, ainsi qu’un sas de chargement permettant l’échange des échantillons et des carrousels de cibles PLD sans remise à l’air des chambres de procédé. Toutes les chambres devront atteindre des pressions de base inférieures à 1 x 10-7 mbar. La chambre PLD devra être équipée d’un laser excimère KrF et d’un système RHEED haute pression in situ, et être adaptée à la croissance épitaxiale routinière d’oxydes à haute température autour de 1100 °C. La chambre de pulvérisation cathodique devra permettre la pulvérisation magnétron DC et RF de couches métalliques et d’oxydes, y compris la pulvérisation réactive sous atmosphère Ar/O₂, avec un chauffage du substrat jusqu’à au moins 700 °C au moyen d’un concept de porte-échantillon compatible avec la PLD. Le système devra permettre le transfert d’échantillons vers une valise de transfert UHV externe et disposer de ports compatibles UHV pour une future extension du cluster. Pour plus de détails, voir le cahier des charges.

The Laboratory of Inorganic Chemistry at ETH Zurich plans to procure an integrated UHV cluster for pulsed laser deposition and sputtering of heterostructures containing oxide and metallic layers. The system will enable materials synthesis on oxide substrates up to 10 x 10 mm2 in area. It shall comprise a PLD chamber, a sputtering chamber, a central UHV transfer/handling chamber, and a load-lock for sample and PLD target-carousel exchange without venting the process chambers. All chambers must have base pressures below 1 x 10-7 mbar. The PLD chamber must include a KrF excimer laser, in-situ high-pressure RHEED and be suitable for routine high-temperature epitaxial oxide growth around 1100 °C. The sputtering chamber must allow DC and RF magnetron sputtering of metallic and oxide layers, including reactive sputtering in Ar/O₂ atmospheres, with substrate heating up to at least 700 °C using a carrier concept compatible with PLD. The system must allow sample transfer to an external UHV vacuum suitcase, and retain UHV-compatible ports for future expansion of the cluster. Further details see specification document.

Begründung des Zuschlagentscheides Der erfolgreiche Anbieter erzielte die höchste Gesamtpunktzahl und erhielt daher den Zuschlag. Sein Angebot bot das vorteilhafteste Gesamtverhältnis aus technischer Qualität, Erfüllung der festgelegten Anforderungen, effizienter Raumnutzung und Wirtschaftlichkeit. Es verband eine hohe technische Bewertung mit einem wettbewerbsfähigen Anschaffungspreis und vorteilhaften Lebenszykluskosten.

Justification de la décision d’adjudication Le soumissionnaire retenu a obtenu le score total le plus élevé et le marché lui a donc été adjugé. Son offre présentait l’équilibre global le plus avantageux entre qualité technique, satisfaction des exigences spécifiées, utilisation efficace de l’espace disponible et avantage économique. Elle combinait un score technique élevé avec un prix d’acquisition compétitif et des coûts du cycle de vie avantageux.

Substantiation for award decision The successful tenderer achieved the highest total score and has therefore been awarded the contract. Its offer provided the most advantageous overall balance of technical quality, fulfilment of the specified requirements, space efficiency and economic value, combining a high technical score with a competitive acquisition price and favourable life-cycle costs.