Bezmaskový laserový litografický systém/Direct-Write Optical Lithograph
Track this opportunity
Register to add pursuits, save this notice, and get alerts when similar tenders appear.
- Save and reuse search filters
- Track opportunities as pursuits
- Get notified when new notices match
Key information
Overview
Předmětem této veřejné zakázky je moderní bezmaskový laserový litografický systém určený pro přímý laserový zápis jemných struktur na různé typy a velikosti substrátů. Jedná se o specializované laboratorní zařízení, které umožňuje vytváření přesně definovaných mikro- a nanostruktur bez nutnosti použití klasických fotolitografických masek. Účelem požadovaného zařízení je rozšíření technologické možnosti pracoviště v oblasti přípravy mikro- a nanostruktur. Zařízení umožní flexibilní a rychlou přípravu struktur bez nutnosti výroby fotomasek, čímž dojde ke zefektivnění výzkumných a vývojových činností. Pořízení zařízení přispěje ke zvýšení kvality, efektivity a konkurenceschopnosti výzkumných aktivit pracoviště. Podrobně je předmět veřejné zakázky vymezen technickými, obchodními a jinými smluvními podmínkami, které jsou součástí zadávací dokumentace.
15 May 2026, 12:44
Dispatch date
Milestone
17 May 2026, 22:00
Publication date
Publication
15 Jun 2026, 08:00
Submission deadline
Deadline
30 Dec 2026, 23:00
Contract end date
Deadline
None recorded.